昨今、ALD/CVDの用途拡大に伴って新しい有機金属化合物を合成することが多くなりました。 できれば成膜するエンジニアの方が使いやすい蒸気圧が高く安定な成膜材料を提供したいのですが、蒸気圧が低い材料や熱安定性に乏しい材料 …Read More >>
Author Archives: kumagai
貴金属ALD材料と薄膜化
最近、ルテニウムやプラチナなどの貴金属ALD材料の注文をいただくことが多くなりました。 開発用途で注文いただく貴金属ALD材料の数量は10～25gと少量なのですが、当社で合成するときは生産性などを考慮して100g程度です …Read More >>
ALD材料の拡大を感じたALD2015
昨年京都で行われたALD2014に続き今年もALD2015（6月31日～7月3日）に展示ブースを出展しました。ブースにお立ち寄りいただいた方々、ありがとうございました。 今年はオレゴン州ポートランドだったということもあり …Read More >>
ウェブサイトリニューアルのお知らせ
このたびサイトをリニューアルし、内容を充実させてオープンしました。 スマートフォンからもご覧いただけます。 今後ともジャパンアドバンストケミカルズをよろしくお願いいたします。
平成23年度戦略的基盤技術高度化支援事業
平成23年度戦略的基盤技術高度化支援事業 テーマ： 次世代パワーデバイス向け革新的手法を用いた成膜技術の開発
平成21年度ものづくり中小企業製品開発等支援補助金
平成21年度ものづくり中小企業製品開発等支援補助金（試作開発等支援事業） テーマ： 液体薬品を極めて清浄なまま半導体製造装置等へ供給するための装置の開発
中小企業・ベンチャー挑戦支援事業のうち事業化支援事業
中小企業・ベンチャー挑戦支援事業のうち事業化支援事業 テーマ 「超高純度酸化シリコンの低温成長用新規シリコン材料の事業化」
The influences of filament temperature on the structure of boron nitride films and its tribological characterization for microforming die application
The influences of filament temperature on the structure of boron nitride films and its tribological characteri …Read More >>
Super-low-k SiOCH film (k = 1.9) with extremely high water resistance and thermal stability formed by neutral-beam-enhanced CVD
Super-low-k SiOCH film (k = 1.9) with extremely high water resistance and thermal stability formed by neutral- …Read More >>
Impact of film structure on damage to low-k SiOCH film during plasma exposure
Impact of film structure on damage to low-k SiOCH film during plasma exposure, Shigeo Yasuhara et al 2009 J. P …Read More >>