当社の基盤製品は化学材料です。
薄膜堆積手法において注目を集めているALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積法)やCVD(Chemical Vapor Deposition/化学気相成長法)に対応するさまざまな材料を中心に、シリコン・化合物半導体材料、コーティング材料、その他機能性材料などを取り揃えており、膨大な材料リストから貴社のニーズに最適なものをご提案します。また既存の材料でニーズが満たせない場合には、カスタム合成もいたします。
成膜工程の改善を検討している方、新しい成膜を検討している方、適切な化学材料を選ぶことが大切な要素です。ぜひご相談ください。
下記の材料は取扱製品の一例です。
お客様の装置・条件に最適な材料をご提案・ご提供しますので、まずはどんなことでもお問い合わせください。
※法律などで製造を禁止されているもの、毒性が著しく高いもの、放射性物質、原料の入手が困難なものなど、一部取り扱いができないものもございます。
元素周期表
クリックすると各化合物にジャンプします元素 | |||||||||||||||||
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H | He | ||||||||||||||||
Li | Be | B | C | N | O | F | Ne | ||||||||||
Na | Mg | Al | Si | P | S | Cl | Ar | ||||||||||
K | Ca | Sc | Ti | V | Cr | Mn | Fe | Co | Ni | Cu | Zn | Ga | Ge | As | Se | Br | Kr |
Rb | Sr | Y | Zr | Nb | Mo | Tc | Ru | Rh | Pd | Ag | Cd | In | Sn | Sb | Te | I | Xe |
Cs | Ba | La | Hf | Ta | W | Re | Os | Ir | Pt | Au | Hg | Tl | Pb | Bi | Po | At | Rn |
Fr | Ra | Ac | Rf | Db | Sg | Bh | Hs | Mt | Rg | Ds | Uub | Uut | Uuq | Uup | Uuh | Uus | Uuo |
La | Ce | Pr | Nd | Pm | Sm | Eu | Gd | Tb | Dy | Ho | Er | Tm | Yb | Lu | |||
Ac | Th | Pa | U | Np | Pu | Am | Cm | Bk | Cf | Es | Fm | Md | No | Lr |
元素・製品名・分子式・CAS No.などで検索することができます
化学式 | 略称 | 製品名 | CAS No. | 製品コード | MSDS | 元素 |
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Al(CH3)3 | TMA | トリメチルアルミニウム | 75-24-1 | P0014 | SDS | Al |
Al(C11H19O2)3 | Al(DPM)3 | トリス (2,2,6,6–テトラメチル -3,5 3,5-ヘプタンジオン酸)アルミニウム | 14319-08-5 | P0291 | MSDS | Al |
Al(C2H5)3 | TEA | トリエチルアルミニウム | 97-93-8 | P0437 | MSDS | Al |
(CH3)2(CH3O)SiOSi(OCH3)(CH3)2 | DMOTMDS | 1,3-ジメトキシ-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン | 18187-24-1 | P0366 | MSDS | Si |
[Si(CH3)2O]4 | OMCTS | オクタメチルシクロテトラシロキサン | 556-67-2 | P0023 | MSDS | Si |