FAQ

ALDは真空装置内に設置した基板上に原料化合物の分子をモノレイヤーごとに

1. 表面へ吸着・反応による成膜
2. パージによる余剰分子の取り除き

のサイクルを繰り返し行うことによって原子層を一層ずつ積み上げる成膜方法です。

【ALDの利点】

• 一原子層レベルのコントロールにより、nm領域の膜厚制御が可能
• 膜厚分布や組成が均一で段差被覆性に優れた薄膜
• ピンホールフリーの緻密な薄膜
• 比較的低温での製膜も可能

近年様々なアプリケーションへの応用が飛躍的に増加し、半導体、化合物半導体デバイスのほか、MEMS/NEMS (micro/nanoelectromechanical systems)、光学薄膜、レーザー薄膜、コーティング、腐食防止、太陽電池などに代表される再生可能エネルギー、医療機器、生体材料、湿気防止のバリアー、装飾品のコーティング、ガラスのクラック防止の保護膜など…さまざまな分野に広がりを見せています。

CVDはさまざまな用途に使用されている主要な薄膜形成技術のひとつで、揮発性の有機金属化合物を熱やプラズマで分解し、基板上に膜を堆積します。
基板表面との相互作用により、被膜性の良い膜が形成されます。
ALDの材料はCVDにも利用可能です。

お客様のニーズに合うように膨大な材料リストから最適なものをご提案いたしますが、もしも既存材料でニーズが満たせない場合はカスタム合成も行います。
ご要望をお伺いし、お客様のニーズに合わせた構造を提案させていただきますので、ぜひお問い合わせいただきますようお願いします。

容器洗浄、薬品の小分け作業、移充填、各種の委託実験など、お困りのことがあれば検討・対応させていただきます。ぜひお問い合わせください。

ご希望の容器容量、容器の使用方法、薬液の種類などを教えていただき、当社のエンジニアが容器を設計します。
化学材料を知っているメーカーだからこそできるサービスです。ぜひお問い合わせください。

半導体業界での豊富な知識と経験に基づき、お客様の事業をサポートします。

• 材料＋成膜プロセスによるお客様のサポート
• 具体的かつ詳細な情報でマーケティングとセールスをサポート。
• お客様の開発テーマに合わせて開発初期からのパートナーシップを確立
• 製造・輸出入・海外拠点を含めてご提案。

など、幅広い範囲でサポートいたしますので、ぜひご相談ください。

金属、ガラス、プラスチックなどの表面改質やそのプロセスの低温化・薄膜化・密着性・均一性など、さまざまなプロセスに利用されています。

数gから数kgまで、試作対応します。

当社では、簡単な成膜装置（PECVD、ALD）を社内に所有していますので、お客様の用途に合わせた成膜テストが可能です。
基板サイズはチップサイズから2 inchサイズステージまで対応いたします。また成膜材料の熱安定性や分解温度、蒸気圧など実際に原料を反応炉に供給する上で必要なデータを実材料と実装置を用いて得ることもできます。
「小さな基板でいいからどんな条件でどんな膜ができるか確認したい」、「成膜は社内でできるが装置改造前にその条件をある程度見極めたい」、そんな時にはぜひお問い合わせください。

1日単位で承ります。ぜひご相談ください。

当社が所有するホットウォール型成膜装置は構造がシンプルですので、従来よりも蒸気圧が低い材料にも対応範囲が拡大しました。ご興味のある方はぜひお問い合わせください。

【連続式センサー】

超音波を利用して容器内にある化学薬品の実際の量をリアルタイムで測定する連続式タイプのセンサーで、半導体、液晶や太陽電池などのCVD/ALDプロセス装置に採用されています。そのほかにも、化学薬品を使用しているさまざまな産業現場で使用することができます。

【定点式センサー】

超音波を利用して設定された液面レベルにおいて化学薬品の有無を検出するセンサーで、半導体・液晶や太陽電池などのCVD/ALDプロセス装置に採用されています。そのほかにも、化学薬品を使用しているさまざまな産業現場で使用することができます。