化学材料

当社の基盤製品は化学材料です。

薄膜堆積手法において注目を集めているALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積法)やCVD(Chemical Vapor Deposition/化学気相成長法)に対応するさまざまな材料を中心に、シリコン・化合物半導体材料、コーティング材料、その他機能性材料などを取り揃えており、膨大な材料リストから貴社のニーズに最適なものをご提案します。また既存の材料でニーズが満たせない場合には、カスタム合成もいたします。

成膜工程の改善を検討している方、新しい成膜を検討している方、適切な化学材料を選ぶことが大切な要素です。ぜひご相談ください。

下記の材料は取扱製品の一例です。
お客様の装置・条件に最適な材料をご提案・ご提供しますので、まずはどんなことでもお問い合わせください。

※法律などで製造を禁止されているもの、毒性が著しく高いもの、放射性物質、原料の入手が困難なものなど、一部取り扱いができないものもございます。

元素周期表

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元素                 
HHe
LiBeBCNOFNe
NaMgAlSiPSClAr
KCaScTiVCrMnFeCoNiCuZnGaGeAsSeBrKr
RbSrYZrNbMoTcRuRhPdAgCdInSnSbTeIXe
CsBaLaHfTaWReOsIrPtAuHgTlPbBiPoAtRn
FrRaAcRfDbSgBhHsMtRgDsUubUutUuqUupUuhUusUuo
LaCePrNdPmSmEuGdTbDyHoErTmYbLu
AcThPaUNpPuAmCmBkCfEsFmMdNoLr

元素・製品名・分子式・CAS No.などで検索することができます

化学式略称製品名CAS No.製品コードMSDS元素
Al(CH3)3TMAトリメチルアルミニウム75-24-1P0014MSDSAl
Al(C11H19O2)3Al(DPM)3トリス (2,2,6,6–テトラメチル -3,5 3,5-ヘプタンジオン酸)アルミニウム14319-08-5P0291MSDSAl
Al(C2H5)3TEAトリエチルアルミニウム97-93-8P0437MSDSAl
(CH3)2(CH3O)SiOSi(OCH3)(CH3)2DMOTMDS1,3-ジメトキシ-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン18187-24-1P0366MSDSSi
[Si(CH3)2O]4OMCTSオクタメチルシクロテトラシロキサン556-67-2P0023MSDSSi